平面抛光机是在物体表面上的抛光的一种工具，抛光分为粗抛，半精抛，精抛。下面，我们一起来看看平面抛光机的抛光原理吧。

　　平面抛光的作用是使工件外面粗拙度低落，以获得光明、平坦外面。平面抛光机其机理应该分别是三种结合，因为在平面抛光机在工作过程时会化学作用、机械磨削、表面流动的理论。
 

　　1、化学作用理论

　　在抛光过程时，工件表面，抛光剂，抛光模和水的作用下，发复杂的化学过程。如，光学玻璃表面发生水解过程，或者硬脆性材料发生化学腐蚀过程。

　　2、机械磨削理论

　　抛光是继研磨之后的工作，其两者本质相关不大。都是通过尖硬的磨料颗粒对工件表面进行细微切削作用的结果。但抛光用的磨料对于研磨的磨料颗粒更加细微的抛光剂，微小的切削可以在分子大小范围内进行。抛光模与工件表面吻合相当，抛光时切向力较大，从而使工件表面凹凸的微裂结构被磨切掉，就形成了工件光滑的表面。

　　3、表面流量理论

　　工件表面由于高压和相对运动，摩擦生热致使表面产生塑性的流动，凸起部分会凹下部分填平，形成光滑的抛光表面。分别有两种理论：

　　(1)是根据抛光表面用金钢石划成图案，然后抛掉，而再用酸腐蚀后图案划痕再现。

　　(2)是由抛去厚度计算的抛去重量比实测的大得多，于是就认为抛光的质量填到表面凹凸层的谷部。由此说明流动作用的覆盖。

　　综上所述，平面抛光机的抛光过程是极其复杂的，至今也没有完善统一的结论。以上据说的理论化学作用是必须的，而机械理论是基本的，表面流动理论也存在一定的可能性。