在平面自动抛光机加工中，选择合理的运动方式以及抛光轨迹是极为重要的一步，抛光运动状况的好坏，将会直接影响抛光加工时的精度以及生产的效率。所以，平面自动抛光机在抛光加工运动中，抛光运动应满足以下几点要求：

　　1、在加工工件时，整个平面自动抛光机的抛光运动自始至终都应该力求平稳。

　　2、抛光运动应该保证工件能够均匀地接触抛光盘的全部表面。

　　3、所选用的抛光运动应使运动轨迹不断有规律地改变方向，尽量避免过早地出现重复。

　　4、在抛光运动时，抛光运动还应该根据不同的抛光工艺要求，具体的选取最佳运动抛光速度。

　　5、在抛光运动中，平面自动抛光机的研具与工件之间应处于还处于浮动的状态，而不应是强制的限位状态。

　　6、抛光运动应保证工件受到均匀抛光即被研工件表面上的每一点所运动的路程应尽量相等。

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